Precision-Processed
Products Quartz Ring
반도체 Eathing 설비 적용제품- Quartz Ring은 고순도 석영 유리(Fused Quartz or Fused Silica)로 만들어진 링 형태의 부품입니다. 석영 유리는 높은 열 안정성, 우수한 내화학성, 낮은 열팽창 계수, 높은 광투과율 등의 특성을 지니고 있어 다양한 산업 분야, 특히 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 합니다. 포커스 링(Focus Ring)은 플라즈마 식각 장비 내 에서 웨이퍼 주변에 위치하여 플라즈마의 밀도와 분포를 제어하고 균일한 식각이 이루어지도록 돕습니다. 웨이퍼 가장자리의 식각 불균일(Edge Effect)을 줄이는 데 중요한 역할을 합니다. 또한 CVD 장비에서 반응 가스가 웨이퍼 표면에 균일하게 공급되도록 가스 흐름을 유도 하고 제어하는 역할을 합니다. 당사에서는 고객사의 사양에 맞게 맞춤 제작하여 공급하고 있습니다.
Products Quartz Stage & Bar
LCD, OLED 설비 적용제품- 높은 광 투과율 심자외선(DUV) 부터 근적외선(NIR) 파장 까지 광범위한 스펙트럼에 걸쳐 투명합니다. 따라서 광학 응용 분야 및 빛 관련 공정에 적합하며 순도가 높아 민감한 반도체 재료의 오염을 방지합니다. 증착(CVD), 확산, 산화, 식각 등의 공정에서 고온 반응 챔버 내 지지 구조물, 고정 장치, 스테이지등 으로 사용됩니다 .
Products Quartz Vacuum Chuck
반도체 본딩 설비 적용제품- 정밀 진공 척은 평탄도, 평행도, 두께 공차 및 표면 마감 등 정밀한 미세 가공과 연마까지 가공 난이도가 높은 제품 입니다. Quartz Vacuum Chuc에는 석영 또는 금속 인서트가 사용되며, Q’tz Chuck은 금속, 세라믹 척 대비 제품 오염도를 최대한 줄일수 있으며 레이저 광원을 투영하여 본딩작업이 가능합니다. 그로인해 HBM 제조 설비의 중요한 부품으로 활용되고 있습니다. 저희는 다양한 마감, 디자인 및 패턴등 맞춤 제작이 가능합니다.
Products Sapphire Vacuum Chuck
칩 본더 설비 적용제품- 기존의 Quartz Vacuum Chuck보다 내마모성, 열 에너지, 화학반응에 강한 장점을 가지고 있습니다. 하지만 그 만큼 가공이 어렵고 연마작업이 힘들어 제품 제작이 쉽지는 않습니다. 당사는 공정기술 변경 및 사파이어 연마기술 노하우를 적용하여 제품 상용화에 성공하였 습니다.
Products Elliptical Reflectors
노광 설비 적용제품- 타원형 거울은 두 개의 초점을 가지고 있어 어셈블리 내에 여러 개의 초점 부품이 필요 없습니다. 저온 거울 코팅은 가시광선을 반사하는 동시에 근적외선(NIR)은 투과시키므로 저온 응축 분야에 이상적입니다. 정밀 타원 반사경은 정밀 연마되어 정확한 비구면 프로파일을 생성합니다. 당사의 타원경은 시중에서 판매되는 프레스 성형 반사경보다 향상된 열 안정성과 탁월한 초점 효율을 제공합니다. 당사는 자체적으로 제작 및 코팅까지 가능하며 국내 노광설비 및 타이완 업체에 공급한 이력을 가지고 있습니다.
Products Target Glass
미세 페턴 글라스- 일반적으로 목표 지점이나 표적을 나타내는 글라스 제품을 의미합니다. 주로 광학 시스템이나 측정 장비에서 사용되며, 정밀한 위치 측정을 위한 교정 도구로 활용됩니다. 정밀한 측정이 필요한 장비에서 기준점 역할을 하며, 측정 결과의 정확도를 확보하는데 기여합니다. Line width 10㎛, Circle 30㎛ 까지 제작이 가능합니다.
Products LCD 노광설비용 대구경 렌즈
- 노광(Exposure)은 ‘물질을 빛에 노출시킨다’는 개념으로, 디스플레이에서 픽셀의 스위치 역할을 하는 TFT(박막트랜지스터)를 만들 때 사용하는 포토리소그래피(Photolithography) 공정의 일부입니다. TFT의 미세 전자회로를 만들기 위해서는 회로에 사용되는 물질을 기판에 입히고, 비 회로 영역은 제거하는 과정을 반복해야 합니다. 이를 위해 PR(Photoresist, 감광액)을 해당 물질 위에 도포하고, 그 위에 회로의 밑그림이 그려진 노광용 마스크(Mask)를 올려놓은 후, 노광 장비로 빛을 비춰 PR이 마스크의 밑그림대로 회로 패턴을 형성하게 만듭니다. 이때 UV광원을 마스크에 도달시키는 역할을 하는 LENS로 Relay Lens, Input Lens 등 으로 구분할수 있고 대구경 렌즈(Dia 400mm) 제작이 가능합니다.